Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

在当今精密科技飞速发展的时代,无尘环境对于众多行业而言显得尤为重要。无论是光学镜头的精密制造,还是半导体生产线的严格控制,都需要高标准的清洁解决方案。在这样的背景下,日本Savina MX超细无尘布以其卓越的性能和广泛的应用,成为了清洁领域的佼佼者,为众多行业的无尘环境维护提供了可靠保障。

卓越的吸水吸油性能

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细无尘布之所以能够在市场上脱颖而出,首先要归功于其卓越的吸水吸油性能。无论是在光学镜头的制造过程中,还是在半导体生产线的车间,Savina MX都能轻松应对各种清洁任务。其强大的吸水吸油性不仅能高效清洁表面的污渍,还能在清洁过程中保护原件不受磨损。对于需要极高洁净度的行业来说,Savina MX无疑是确保清洁过程安全性和有效性的最佳选择。

无尘环境的理想选择

无尘环境对于许多高科技行业至关重要。Savina MX无尘布在设计上充分考虑了无尘环境的特殊要求。无尘室中所使用的擦拭布,不仅需要彻底清洁所有仪器、器械和外围设备,还必须确保清洁过程不造成任何污染。Savina MX无尘擦拭布正是为此而生。它能够有效吸收并清除多余的水分,同时在清洁过程中不产生任何污染,确保无尘环境的维护和稳定。

先进制造工艺与卓越性能

Savina MX超细纤维无尘布采用了最先进的制造工艺,具备超高的收缩率和密度。经过专门的细针距针织机编织而成的Savina MX,表面积达到了惊人的25,700 c㎡/g,相比传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g,这意味着Savina minimax的清洁效率和持久性大大提高。在实际使用中,用户能够明显感受到其卓越的清洁效果和持久的使用寿命。

广泛应用于各个行业

Savina MX的卓越性能,使其在多个行业得到了广泛应用。光学镜头制造、半导体生产、医疗器械清洁、精密仪器维护等领域,都能看到Savina MX的身影。其多功能性和高效性,使其成为众多企业和机构的首选清洁产品。在高标准无尘环境的维护中,Savina MX已经成为不可或缺的重要角色。

未来展望

随着科技的不断进步,对无尘环境的需求将日益增加。Savina MX超细无尘布凭借其出色的性能和广泛的应用范围,将继续在清洁领域发挥重要作用。作为高科技时代的清洁利器,Savina MX不仅为各行业的无尘环境维护提供了可靠保障,还为人们创造了更加清洁、健康的工作环境。我们有理由相信,在未来的日子里,Savina MX将继续引领清洁领域的创新,为更多行业带来高效、可靠的清洁解决方案。

在选择无尘擦拭布时,选择Savina MX,就是选择了品质与信赖。让Savina MX无尘布为您的无尘环境保驾护航,助力您的事业腾飞!

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Mx超细纤维无尘布擦拭镜布

Savina Mx超細纖維無塵擦拭布拭鏡布

日本钟纺株式会社开发的Savina Minimax是一款高级别的无尘擦拭布,广泛适用于10级以上的无尘车间净化环境。这款擦拭布具有出色的吸水吸油性能,不会损伤原件表面,因此被广泛用于光学镜头制造、办公器材保养以及半导体生产线车间等领域。

规格:

  • Savina MX 7CM x 7CM,1000片/包
  • Savina MX 15CM x 15CM,200片/包
  • Savina MX 24CM x 24CM,100片/包
  • Savina MX 50CM x 50CM,20片/包
  • Savina MX 100CM x 100CM,5片/包

特点:

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能,能够清除灰尘而不会污染无尘室设备。

用途:

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

产品特性:

  • 自己发尘量极微。
  • 吸水性能优异,吸水速度快,保水量大。
  • 残留离子等溶出成分极少。
  • 拭浄性好,能够彻底清除污渍而不会再次污染表面。

无尘室中使用的擦拭布至关重要,而Savina Minimax以其高性能和多功能性,成为了行业中的首选。其超高收缩、高密度整理的特性保证了清洁效果,使其成为各类精密生产环境中的理想选择。

ザヴィーナ®MXワイピングクロス

Savina Mx microfiber wiper

今日のハイテクノロジーは、ますます高度化・精密化しています。LSIや液晶など生産工程の環境づくりに欠かせないのが、高性能のワイピングクロスです。
時代のニーズにいち早く対応し、スーパークリーンルームの超無塵環境に充分対応できるワイピングクロスを開発しました。それがザヴィーナMXです。
クリーンルーム内で使われるワイパーは、器具類、装置類、周辺物を汚染することなく清浄化し、吸水を果す役割を担っています。ワイパーに必要とされる特性をすべて兼ね備えたザヴィーナMXは、まさにハイテクノロジー時代が生んだ高性能のワイピングクロスです。

ザヴィーナMXは編立のあと、独自の技術でタテヨコに超高収縮させ、高密度化。ワイピングクロス表面の1平方センチ当り82,550本もの繊維がホコリをとらえます。

規格:

  • Savina MX 7CM x 7CM、1000枚/パック
  • Savina MX 15CM x 15CM、200枚/パック
  • Savina MX 24CM x 24CM、100枚/パック
  • Savina MX 50CM x 50CM、20枚/パック
  • Savina MX 100CM x 100CM、5枚/パック

特徴:

  • 毛羽がほとんど発生しません。
  • 迅速かつ積極的に水分を吸収し、保持します。
  • 溶出イオンやその他の物質の残留率が低いです。
  • 高品質なクリーンクロス性能を備え、ダストを取り除く際にクリーンルームの設備を汚染しません。

用途:

  • 光ディスク、ハードディスク、ソフトディスクの製造プロセス
  • 液晶偏光板およびその他のアイテムの製造プロセス
  • 光ディスクおよび磁気ディスクの製造プロセス
  • ビデオカメラの製造プロセス
  • コンタクトレンズの製造プロセス
  • カメラの組み立てライン
  • 印刷基板のクリーンアッププロセス
  • カメラレンズのコーティング前のクリーンアッププロセス
  • 薬品生産ラインのクリーンアッププロセス
  • フィルム製造ラインのクリーンアッププロセス
  • 半導体および基板の製造プロセス
  • 高精度コーティング前のワークピースのクリーンアッププロセス

製品特性:

  • 自己発尘量が極めて少ないです。
  • 吸水性能に優れ、吸水速度が速く、保水量が大きいです。
  • 溶出イオンなどの残留物が非常に少ないです。
  • 汚れを徹底的に取り除き、表面を再汚染しません。

クリーンルームでの擦拭布の使用は非常に重要ですが、Savina Minimax  ザヴィーナMX はその高性能と多機能性により、業界でのトップチョイスとなっています。超高収縮、高密度整理された特性は、清掃効果を保証し、さまざまな精密生産環境での理想的な選択肢となっています。

日本savina MX minimax超细纤维无尘布

日本savina MX minimax超细纤维无尘布

成分及含量 无尘擦拭布 幅宽 24cm
规格 24cm*24cm

savina minimax (日本kanebo)

无尘室专用擦拭布,采用超细纤维材质制作而成。

尺寸 包装

7cm*7cm 1.000

15cm*15cm 200

24cm*24cm100

50cm*50cm20

100cm*100cm 5