Savina MX超细纤维无尘擦拭布 使用寿命长 不易引起化学反应

Savina MX超细纤维无尘擦拭布 使用寿命长 不易引起化学反应

是否进口
加工定制
支持
规格
24cm x 24cm
熔点
250-260C (polyethylene terephthalate)
点火点
480°C
产地
日本
闪点
410°C
包装
10片/小包 100片/大包
洁净等级
1-10级
棉签头材质
双层聚酯布
可售卖地
北京;天津;河北;山西;内蒙古;辽宁;吉林;黑龙江;上海;江苏;浙江;安徽;福建;江西;山东;河南;湖北;湖南;广东;广西;海南;重庆;四川;贵州;云南;西藏;陕西;甘肃;青海;宁夏;新疆
由超细纤维作成的Savina MX超细纤维无尘擦拭布,在刮起污物后,污物会顺着纤维的毛细管信道往外迁移,呈内部剥离的效应,如此污物不会残留拭净布的表面,因此不会造成刮伤精密的产品。

savina MX超细无尘布

日本KB SEIREN 制 Savina 超细纤维擦拭布,用于超级无尘环境的高效擦拭布;是全球性能很好的擦拭布之一。有助于客户提高生产效率和保持质量稳定。

产品规格:

・24cm*24cm

・15cm*15cm

・10cm*10cm

・7cm*7cm

除上述规格外,还可定制规格。

产品特点:

1.使用世界上独一无二的尼龙和聚酯分割型超细复合纤维Belima X

・ 可以擦拭水性、油性两种污渍:Savina使用的BelimaX是亲水性尼龙和亲油性聚酯的复合纤维,无论是水性还是油性污渍都可以擦拭干净。

・ 防止在被擦拭物上再度附着污渍:BelimaX分割型异形截面呈楔形,可以深入被擦拭物的表面凹凸处,有效的捕捉污渍和尘埃,并且不会让所捕捉的污渍再次附着到物体上。

・ 不会损伤被擦拭物:Savina 是0.1分特(1-5 微 米)的超细纤维 BelimaX呈环状的清  洁擦布,缓冲性强,不会损伤被擦拭物表面

2.擦拭效果突出的“超高收缩高密度素材”

・ 一次擦拭即可去除几乎所有污渍:Savina 是将 BelimaX 进行超高收缩高密度加工的产品,表面的丝量约是其他涤纶针织擦拭布的12倍,不用擦拭很多遍,只需一次就基本可以擦拭干净。

3.自身发尘性接近 0“超高温特殊剪裁(超高温加热剪裁)”

・ 优良的低发尘性:使用传统的加热裁剪机剪切时,织物边缘只有约50%被封边,因此会导致更多细小绒毛的产生,并使织物碎片不规则附着在切口边缘。 为了避免这种情况,我们开发出了只需在刀口轻压,就可以进行100%热封的超高温加热裁剪技术。通过这一技术,可使纤维边缘部分蒸发,并不残留任何熔化织物,从而使自身发尘性无限接近零。

・ 极少的溶出成分:布料制造工序中使用的水,都是离子交换水。然后是清洗工序中使用超纯水进行清洗。控制残留离子等的溶出成分。

Savina MX超细纤维无尘擦拭布

Savina MX超细纤维无尘擦拭布

随着高科技领域的复杂性和精确性日益提高,制造过程中的洁净度要求也变得更加严格。在LSI和LCD等高精度产品的生产中,保持无尘环境尤为关键。这时候,SAVINA MX无尘擦拭布便成为实现这一目标的利器。

为什么选择SAVINA MX无尘擦拭布?

SAVINA MX无尘擦拭布经过特殊设计,专门用于超洁净室环境,确保在生产过程中不会产生纤维脱落或微尘残留。其采用精密织造工艺,密度高达25,700平方厘米/克,有效去除微尘,并且不会在擦拭过程中损伤表面。

高效吸附与清洁

这款无尘布不仅能够高效吸附灰尘颗粒,还具有卓越的液体吸收能力,适用于LSI和LCD制造过程中对洁净度要求极高的场合。它的高密度结构可确保擦拭时不会有微粒或残留物影响生产设备的性能。

低离子残留,保护精密设备

SAVINA MX无尘布的设计考虑了离子残留问题,它经过严格的处理以降低擦拭后的离子溶出率,确保不会对精密电子设备和光学仪器造成污染或损害,为高端制造业提供了可靠的支持。

广泛应用

无论是在光学镜片制造、半导体生产线,还是办公室设备维护,SAVINA MX无尘擦拭布都表现出色。其耐用性和低残留特性使其成为确保超洁净环境下进行精密操作的理想选择。

SAVINA MX无尘擦拭布,不仅仅是一块无尘擦拭布,更是高科技生产环境中的洁净保障。选择它,便是为您的产品质量和生产效率保驾护航!

您可以通过中国的代理经销商购买 Savina 洁净室擦拭布,例如 优斯特。他们提供 Savina CK ,MX等高性能产品,适用于半导体、LCD 生产和光学设备等行业的洁净室环境。您可以直接联系他们了解产品的可用性、规格和定价等详细信息。savinaMX.com