什么无尘布最好用

什么无尘布最好用

按材质划分

 

  • 聚酯纤维无尘布:由 100% 聚酯纤维双编织而成,表面柔软,易于擦拭敏感表面,摩擦不脱纤维,具有良好的吸水性及清洁效率。这种无尘布价格相对较为亲民,常用于擦拭非精密元器件,如某些线路板、LCD 显示类产品等48.
  • 超细纤维无尘布:其纤维直径极细,比聚酯纤维无尘布的吸水性和吸尘性更优良,能有效吸附微小颗粒和液体,擦拭后表面残留少,多用于精密元件或仪器的擦拭,如钟表零件、光学镜头等。且手感柔软,不会刮伤精密仪器表面,但价格一般较高168.
  • 涤锦针织无尘布:耐磨性能好,除油脂、手印等污染物的能力强,擦拭后溶剂干得快,效率高,不过造价也比较高9.

按封边方式划分

Savina Minimax(R) Wiping Cloth

 

  • 冷裁无尘布:这是一种传统的切割方法,采用电剪刀进行间接裁切。切割效率较高,但边缘容易发生毛屑,且切割后不可做干净处理,擦拭过程中边上会发生少量布屑,无法达到较高的无尘标准3.
  • 激光切割无尘布:利用经聚焦的高功率密度激光束照射工件,使被照射的材料迅速熔化、汽化、烧蚀或达到燃点,同时借助与光束同轴的高速气流吹除熔融物质,从而实现将工件割开。其封边较好,不会发生掉毛屑现象,切割完可做网淋及清洗等干净处理,能使产品达到较高的无尘标准,但边因为是融断的所以会稍显有点硬,擦拭过程中需注意3.
  • 超声波切割无尘布:利用超声波振动部组所产生的振动,经过焊头传递热量,通过刀具挤压断面料。这种方法的封边是目前无尘布切割方法中最圆满的一种,封边效果好且边不会硬,不过由于成本高,目前还没有得到大部份企业应用

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细纤维无尘擦拭布 使用寿命长 不易引起化学反应

产品简介

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能最好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

Savina Minimax超细纤维无尘布

超级高收缩、高密度整理产品

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

特点

■   掉毛量极少。

■   迅速而积极地吸收并留住水分。

■   残留离子和其他物质的溶解率较低。

■   具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。

用途:

■   光磁盘、硬盘和软盘的生产过程

■   液晶偏转板以及其他物品的生产过程

■   光盘和磁盘的生产过程

■   录像机的生产过程

■   隐形眼镜的生产过程

■   相机装配线

■   印刷电路板的清洁工艺

■   相机镜头镀膜前的清洁工艺

■   药品生产线清洁工艺

■   电影胶片清洁工艺

■   半导体和基础电路的生产过程

■   精密涂层之前工件的清洁过程

规格:

7cm*7cm

15cm*15cm

24cm*24cm

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

日本进口Kanebo Savina Minimax无尘擦拭布

日本进口Kanebo Savina Minimax无尘擦拭布

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能最好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

超级高收缩、高密度整理产品

Savina MX的横截面

Savina MX的横截面

Savina MX的表面

Savina MX的表面

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g。

特 色

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。

用 途

用途

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

 

日本 KB SIREN HITECLOTH 拭鏡布

日本 KB SIREN HITECLOTH 拭鏡布

  • 能清潔油漬與顯微顆粒與傳統拭布無法清除者。
  • 可以應用於廣泛產品
  • 可洗滌

最高級的顯微纖維

HITECLOTH是由日本KB SEIREN公司製造(原Kanebo佳麗寶公司)極高級拭布,
由0.1旦尼爾特級高級微纖維所構成,
質地細緻、堅韌、不起顆粒,
由斷面圖可以發現,聚酯棉銳利的邊緣與尼龍為核心,
可以有效吸附極為細小汙垢,
而細微的纖維不會損傷任何表面,
由於在發展Belima涗微纖維與高收縮科技,
而研製成此款高科技拭布使KB SEIREN公司成為高科技微纖維之領導廠商。

 

特殊性能

*能清潔油漬與顯微顆粒,傳統拭布無法清除者。

*由於特殊柔軟纖維構成,此拭布並不會傷害鏡片表面。

*可以應用於廣泛產品如玻璃或塑膠鏡片、水晶、相機及

 攝影器材、貴金屬製成之珠寶首飾等,而不刮損及表面。

*可洗滌,即使多次清洗仍可保持清拭功效。

注意事項

*洗滌時,請使用中性肥皂或清潔劑
*熨燙時,溫度請設定120度C以下
*擦拭時,請使用空氣球將大顆粒汙垢先行清除

使用用途

*數位相機、攝影機、鏡頭等製造工程及清潔工作。
*貴重寶石、玉器、金飾、名錶等之擦拭。
*光碟機、磁碟機、硬碟機等之製造工程。
*液晶面板及其他相關製造工程。
*半導體、積體電路等之製造工程。
*精密塗裝前之清潔工作。

規格說明
24公分 X 24公分(白、紅、藍 三色)
Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

在当今精密科技飞速发展的时代,无尘环境对于众多行业而言显得尤为重要。无论是光学镜头的精密制造,还是半导体生产线的严格控制,都需要高标准的清洁解决方案。在这样的背景下,日本Savina MX超细无尘布以其卓越的性能和广泛的应用,成为了清洁领域的佼佼者,为众多行业的无尘环境维护提供了可靠保障。

卓越的吸水吸油性能

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细无尘布之所以能够在市场上脱颖而出,首先要归功于其卓越的吸水吸油性能。无论是在光学镜头的制造过程中,还是在半导体生产线的车间,Savina MX都能轻松应对各种清洁任务。其强大的吸水吸油性不仅能高效清洁表面的污渍,还能在清洁过程中保护原件不受磨损。对于需要极高洁净度的行业来说,Savina MX无疑是确保清洁过程安全性和有效性的最佳选择。

无尘环境的理想选择

无尘环境对于许多高科技行业至关重要。Savina MX无尘布在设计上充分考虑了无尘环境的特殊要求。无尘室中所使用的擦拭布,不仅需要彻底清洁所有仪器、器械和外围设备,还必须确保清洁过程不造成任何污染。Savina MX无尘擦拭布正是为此而生。它能够有效吸收并清除多余的水分,同时在清洁过程中不产生任何污染,确保无尘环境的维护和稳定。

先进制造工艺与卓越性能

Savina MX超细纤维无尘布采用了最先进的制造工艺,具备超高的收缩率和密度。经过专门的细针距针织机编织而成的Savina MX,表面积达到了惊人的25,700 c㎡/g,相比传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g,这意味着Savina minimax的清洁效率和持久性大大提高。在实际使用中,用户能够明显感受到其卓越的清洁效果和持久的使用寿命。

广泛应用于各个行业

Savina MX的卓越性能,使其在多个行业得到了广泛应用。光学镜头制造、半导体生产、医疗器械清洁、精密仪器维护等领域,都能看到Savina MX的身影。其多功能性和高效性,使其成为众多企业和机构的首选清洁产品。在高标准无尘环境的维护中,Savina MX已经成为不可或缺的重要角色。

未来展望

随着科技的不断进步,对无尘环境的需求将日益增加。Savina MX超细无尘布凭借其出色的性能和广泛的应用范围,将继续在清洁领域发挥重要作用。作为高科技时代的清洁利器,Savina MX不仅为各行业的无尘环境维护提供了可靠保障,还为人们创造了更加清洁、健康的工作环境。我们有理由相信,在未来的日子里,Savina MX将继续引领清洁领域的创新,为更多行业带来高效、可靠的清洁解决方案。

在选择无尘擦拭布时,选择Savina MX,就是选择了品质与信赖。让Savina MX无尘布为您的无尘环境保驾护航,助力您的事业腾飞!

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Mx超细纤维无尘布擦拭镜布

Savina Mx超細纖維無塵擦拭布拭鏡布

日本钟纺株式会社开发的Savina Minimax是一款高级别的无尘擦拭布,广泛适用于10级以上的无尘车间净化环境。这款擦拭布具有出色的吸水吸油性能,不会损伤原件表面,因此被广泛用于光学镜头制造、办公器材保养以及半导体生产线车间等领域。

规格:

  • Savina MX 7CM x 7CM,1000片/包
  • Savina MX 15CM x 15CM,200片/包
  • Savina MX 24CM x 24CM,100片/包
  • Savina MX 50CM x 50CM,20片/包
  • Savina MX 100CM x 100CM,5片/包

特点:

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能,能够清除灰尘而不会污染无尘室设备。

用途:

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

产品特性:

  • 自己发尘量极微。
  • 吸水性能优异,吸水速度快,保水量大。
  • 残留离子等溶出成分极少。
  • 拭浄性好,能够彻底清除污渍而不会再次污染表面。

无尘室中使用的擦拭布至关重要,而Savina Minimax以其高性能和多功能性,成为了行业中的首选。其超高收缩、高密度整理的特性保证了清洁效果,使其成为各类精密生产环境中的理想选择。

ザヴィーナ®MXワイピングクロス

Savina Mx microfiber wiper

今日のハイテクノロジーは、ますます高度化・精密化しています。LSIや液晶など生産工程の環境づくりに欠かせないのが、高性能のワイピングクロスです。
時代のニーズにいち早く対応し、スーパークリーンルームの超無塵環境に充分対応できるワイピングクロスを開発しました。それがザヴィーナMXです。
クリーンルーム内で使われるワイパーは、器具類、装置類、周辺物を汚染することなく清浄化し、吸水を果す役割を担っています。ワイパーに必要とされる特性をすべて兼ね備えたザヴィーナMXは、まさにハイテクノロジー時代が生んだ高性能のワイピングクロスです。

ザヴィーナMXは編立のあと、独自の技術でタテヨコに超高収縮させ、高密度化。ワイピングクロス表面の1平方センチ当り82,550本もの繊維がホコリをとらえます。

規格:

  • Savina MX 7CM x 7CM、1000枚/パック
  • Savina MX 15CM x 15CM、200枚/パック
  • Savina MX 24CM x 24CM、100枚/パック
  • Savina MX 50CM x 50CM、20枚/パック
  • Savina MX 100CM x 100CM、5枚/パック

特徴:

  • 毛羽がほとんど発生しません。
  • 迅速かつ積極的に水分を吸収し、保持します。
  • 溶出イオンやその他の物質の残留率が低いです。
  • 高品質なクリーンクロス性能を備え、ダストを取り除く際にクリーンルームの設備を汚染しません。

用途:

  • 光ディスク、ハードディスク、ソフトディスクの製造プロセス
  • 液晶偏光板およびその他のアイテムの製造プロセス
  • 光ディスクおよび磁気ディスクの製造プロセス
  • ビデオカメラの製造プロセス
  • コンタクトレンズの製造プロセス
  • カメラの組み立てライン
  • 印刷基板のクリーンアッププロセス
  • カメラレンズのコーティング前のクリーンアッププロセス
  • 薬品生産ラインのクリーンアッププロセス
  • フィルム製造ラインのクリーンアッププロセス
  • 半導体および基板の製造プロセス
  • 高精度コーティング前のワークピースのクリーンアッププロセス

製品特性:

  • 自己発尘量が極めて少ないです。
  • 吸水性能に優れ、吸水速度が速く、保水量が大きいです。
  • 溶出イオンなどの残留物が非常に少ないです。
  • 汚れを徹底的に取り除き、表面を再汚染しません。

クリーンルームでの擦拭布の使用は非常に重要ですが、Savina Minimax  ザヴィーナMX はその高性能と多機能性により、業界でのトップチョイスとなっています。超高収縮、高密度整理された特性は、清掃効果を保証し、さまざまな精密生産環境での理想的な選択肢となっています。

对于无尘布在使用过程中出现掉屑问题的解决方案

对于无尘布在使用过程中出现掉屑问题的解决方案

1. 选择适合的无尘布材质:

对于无尘布在使用过程中出现掉屑问题的解决方案

  • 根据需要擦拭的表面特性选择直纹或网纹无尘布。
  • 直纹无尘布适合光滑表面,而网纹无尘布适合清洁较为困难的表面。

2. 检查无尘布与环境洁净等级的匹配:

  • 确保购买的无尘布符合使用环境的洁净等级要求。
  • 不要一味追求高洁净度,过高的洁净等级可能导致过度的成本。

3. 检查无尘布封边的牢固性:

  • 确保无尘布的封边方式符合产品要求,如冷裁、激光切割或超声波封边。
  • 注意切割速度,过快的切割速度可能导致封边不牢固。

4. 避免劣质产品:

  • 选择正规厂家生产的无尘布,避免使用劣质原材料制成的产品。
  • 劣质的化纤长丝可能导致布面起毛、纤维断落、掉屑等问题。

5. 定期更换无尘布:

  • 无尘布使用一段时间后,纤维可能会磨损,导致掉屑问题。定期更换无尘布以确保清洁效果。

6. 选择适当的封边方式:

  • 根据使用环境和洁净度要求,选择适当的封边方式,如激光切割或超声波封边。

通过综合考虑无尘布的材质、洁净等级、封边方式以及产品质量,您可以有效减少或解决无尘布掉屑的问题,确保产品清洁且不受污染。

日本进口savina-Minimax无尘布

日本进口savina-Minimax无尘布

avina MX 提供用于超级无尘环境的高效擦拭布性能

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能最好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

超级高收缩、高密度整理产品

Savina MX的横截面

Savina MX的横截面

Savina MX的表面 

Savina MX的表面

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

无尘布

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。
  • 用途
  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程
日本进口saivna Minimax擦拭布

擦拭布「Savina Minimax」

擦拭布「Savina Minimax」

在无尘室内使用的擦拭布,不但不会污染器具,装置和周边物,还担负着清洁和吸水的作用。擦拭布所需具备的重要特性是:
⦁ 自身产生粉尘极其微量
⦁ 吸水性(吸水速度和保水性)优异
⦁ 残留离子等溶出成分少
⦁ 擦拭性好(在无尘室作业时,最大限度地去除污垢,不使其再次污染)
这些特性全部具备的Savina Minimax正是高科技时代产生的高性能的擦拭布。

特长

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1.  无尘性
     由于面料表面无不稳定的起毛,而且使用了强力的超细纤维Belima-X,因此产尘性被抑制到了极限。用无尘清洁包装出货。
     另外,根据环境的不同也可以反复使用。
2.  清洁度
     由于是由高密度化的超细纤维Belima-X制成的,所以也可贴合被擦净物的细微凹凸,并有效捕获细微的尘埃微粒子。
3.  吸水性
     通常合成纤维本身没有吸水性,但是使用超细纤维Belima-X的Savina Minimax发挥了毛细管效应,而这种高密度的结构可以捕获并储存水分。

擦拭布「Savina Minimax」

用途

 磁光盘、硬盘、软盘的制造工序 ● 打印电路基板清扫
● 液晶偏光板、其他制造工序 ● 相机镜片涂层前的清扫
● CD,MD的制造工序 ● 医药品制造工程中的清扫
● 磁带录像机的制造工序 ● 电影胶卷的清
● 隐形眼镜的制造工序 ● 半导体、集成电路的制造工程
● 相机装配 ● 精密涂装前的清扫

标准规格

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■ 按尺寸划分标准擦拭布的数量(包装)

手帕型 胶带型/卷轴无尘布
尺寸 1箱 尺寸
7cm x 7cm 1,000 张 1.3cm x 47m
15cm x 15cm 200 张 1.6cm x 47m
24cm x 24cm 100 张 2.0cm x 47m
50cm × 50cm 20 张 6.0cm x 47m
100cm × 100cm 5 张 12.0cm x 47m

  可根据要求提供其他尺寸,请另行咨询。

标准规格(24cm x 24cm清洁包装)

材料混合率
P70% -N30%
样式
170±3% g/m2
厚度
0.32±0.03mm
表密度
0.531 ± 3% b/cm3
质地密度(纵×横)
83×84 本/in
拉伸強度(纵×横)
JIS L1096 6.12.1 A法
14.0×5.0kgf/cm
伸度(纵×横)
JIS L1096 6.12.1 A法
170×280%
撕裂強度(纵×横)
JIS L1096 6.15 A-1法
1.0×4.0kgf
热水收缩率(纵×横)
JIS L1042 6.1(80℃×30分)
2.0×2.0%

savina Minimax无尘布

savina Minimax无尘布

savina Minimax超细无尘布是目前市面上最高级别的无尘布,适合于100级以内的洁净室无尘净化车间使用,特别适合于10级无尘室,良好的吸水性和吸油性,擦拭不会损伤电子元器件表面,

savina MINIMAX无尘布

  1. Savina 无尘布的主要优势之一是其卓越的清洁能力。采用高质量的无纺布材质,它能够轻松吸附并去除各种污渍、灰尘和指纹。不论是半导体生产线芯片、微处理器、电器、镜面、半导体装配生产线;碟盘驱动器,复合材料;LCD显示类产品;线路板生产线;精密仪器;光学产品;航空工业;PCB产品;医疗设备;实验室。无尘车间和生产线。还是其他表面,这款无尘布能够在不留下绒毛或划痕的同时,彻底清洁并提供闪亮的效果。
  2. 高吸附性能:Savina Minimax 无尘布具备出色的吸附性能,使其能够更有效地吸附尘埃和细微颗粒。其细腻的纤维结构能够深入表面微孔,彻底清除污垢,让物品焕然一新。这种吸附性能不仅保证了清洁效果,还减少了尘埃再次散落的可能性,为清洁工作提供了持久效果。
  3. 可重复使用:Savina Minimax 无尘布是一种可重复使用的清洁工具,这对环境保护和资源节约非常重要。使用后,只需彻底清洗和晾干,它就可以再次使用。这种耐用性不仅节省了经济成本,还减少了对一次性清洁用品的需求,有助于减少对环境的负面影响。
  4. 多种应用场景:Savina Minimax 无尘布适用于多种应用场景。