Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细纤维无尘擦拭布 使用寿命长 不易引起化学反应

产品简介

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能最好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

Savina Minimax超细纤维无尘布

超级高收缩、高密度整理产品

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

特点

■   掉毛量极少。

■   迅速而积极地吸收并留住水分。

■   残留离子和其他物质的溶解率较低。

■   具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。

用途:

■   光磁盘、硬盘和软盘的生产过程

■   液晶偏转板以及其他物品的生产过程

■   光盘和磁盘的生产过程

■   录像机的生产过程

■   隐形眼镜的生产过程

■   相机装配线

■   印刷电路板的清洁工艺

■   相机镜头镀膜前的清洁工艺

■   药品生产线清洁工艺

■   电影胶片清洁工艺

■   半导体和基础电路的生产过程

■   精密涂层之前工件的清洁过程

规格:

7cm*7cm

15cm*15cm

24cm*24cm

Savina MX超细纤维无尘擦拭布

Savina MX超细纤维无尘擦拭布

随着高科技领域的复杂性和精确性日益提高,制造过程中的洁净度要求也变得更加严格。在LSI和LCD等高精度产品的生产中,保持无尘环境尤为关键。这时候,SAVINA MX无尘擦拭布便成为实现这一目标的利器。

为什么选择SAVINA MX无尘擦拭布?

SAVINA MX无尘擦拭布经过特殊设计,专门用于超洁净室环境,确保在生产过程中不会产生纤维脱落或微尘残留。其采用精密织造工艺,密度高达25,700平方厘米/克,有效去除微尘,并且不会在擦拭过程中损伤表面。

高效吸附与清洁

这款无尘布不仅能够高效吸附灰尘颗粒,还具有卓越的液体吸收能力,适用于LSI和LCD制造过程中对洁净度要求极高的场合。它的高密度结构可确保擦拭时不会有微粒或残留物影响生产设备的性能。

低离子残留,保护精密设备

SAVINA MX无尘布的设计考虑了离子残留问题,它经过严格的处理以降低擦拭后的离子溶出率,确保不会对精密电子设备和光学仪器造成污染或损害,为高端制造业提供了可靠的支持。

广泛应用

无论是在光学镜片制造、半导体生产线,还是办公室设备维护,SAVINA MX无尘擦拭布都表现出色。其耐用性和低残留特性使其成为确保超洁净环境下进行精密操作的理想选择。

SAVINA MX无尘擦拭布,不仅仅是一块无尘擦拭布,更是高科技生产环境中的洁净保障。选择它,便是为您的产品质量和生产效率保驾护航!

您可以通过中国的代理经销商购买 Savina 洁净室擦拭布,例如 优斯特。他们提供 Savina CK ,MX等高性能产品,适用于半导体、LCD 生产和光学设备等行业的洁净室环境。您可以直接联系他们了解产品的可用性、规格和定价等详细信息。savinaMX.com

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

日本进口Kanebo Savina Minimax无尘擦拭布

日本进口Kanebo Savina Minimax无尘擦拭布

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能最好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

超级高收缩、高密度整理产品

Savina MX的横截面

Savina MX的横截面

Savina MX的表面

Savina MX的表面

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g。

特 色

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。

用 途

用途

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

 

卓越品质,光学清洁的最佳伴侣 ——hitecloth 光学擦拭布

在光学设备的维护与清洁领域,hitecloth 光学擦拭布宛如一颗璀璨的明星,为您带来前所未有的清洁体验。

(一)材质精良,专为光学而生


hitecloth 光学擦拭布采用了高科技的先进材料。这种材料经过精心挑选和研发,具备超细腻的纤维结构。其纤维细度远低于普通擦拭布,能够深入光学镜片、镜头等表面的微观纹理之中,轻柔地去除污垢、油渍和指纹,而不会对光学表面造成丝毫划伤。无论是精密的相机镜头、高端的望远镜镜片,还是实验室中的显微镜载玻片,hitecloth 都能成为它们最贴心的呵护者。

(二)超强清洁力,一擦即净


这款擦拭布拥有卓越的清洁能力。它能够迅速吸附并带走灰尘颗粒,即使是那些肉眼难以察觉的微小尘埃,也无法逃脱它的 “掌控”。同时,对于顽固的油渍和指纹,hitecloth 光学擦拭布只需轻轻擦拭,就能使其消失得无影无踪,让您的光学设备瞬间恢复清晰明亮,还原最佳的光学性能。在清洁过程中,它不会留下任何纤维残留或清洁液痕迹,确保光学表面始终纯净无瑕。

(三)安全环保,呵护您与环境


我们深知光学设备的使用环境往往对安全性和环保性有着较高要求。hitecloth 光学擦拭布不含有任何可能对光学涂层或人体有害的化学物质,无刺激性气味,让您在使用过程中安心无忧。并且,我们秉持环保理念,从生产到使用,这款擦拭布都对环境友好,使用后可轻松进行环保处理,减少对环境的影响。

(四)耐用设计,经济实惠


hitecloth 光学擦拭布在设计上注重耐用性。它经过特殊工艺处理,纤维结构牢固,即使经过多次反复使用,依然能够保持其良好的清洁性能和纤维完整性。与其他一次性或低质量的擦拭产品相比,hitecloth 光学擦拭布的高性价比优势明显。您无需频繁更换擦拭布,一块 hitecloth 就能长期为您的光学设备保驾护航,为您节省成本的同时,也减少了资源的浪费。

(五)广泛适用,满足多样需求


无论是摄影爱好者手中的昂贵相机镜头,还是科研工作者依赖的光学仪器,亦或是医疗领域的内窥镜等光学设备,hitecloth 光学擦拭布都能完美胜任清洁工作。它的通用性使其成为各种光学设备清洁的理想选择,无论您身处何种领域,只要涉及光学设备的清洁与维护,hitecloth 都将是您的得力助手。


选择 hitecloth 光学擦拭布,就是选择专业、高效、安全和环保的光学清洁解决方案,让您的光学设备始终闪耀着清晰明亮的光芒。

Hitecloth 超细纤维清洁布非常适合用于数码单反相机、镜头、摄像机和许多其他摄影设备。它们还非常适合保持屏幕清洁,因此您可以在手机、平板电脑、电视和显示器上使用它们。

由于它不会刮伤并且能很好地清除污垢和油性残留物,您还可以用它清洁许多其他物品,包括电视机、立体声设备、CD、复印机、珠宝、乐器等等。

特殊功能

  • 可洗的
  • 不产生任何灰尘
  • 柔软触感,不会损坏精致表面
  • 优异的吸水性和吸油性
  • 只需轻轻擦拭即可获得出色的清洁效果
  • 特殊的高密度面料,大面积纤维总面积,吸收效果极佳。
    护理和清洁
  • Hitecloth 可用温和洗涤剂安全清洗,但不能与其他织物一起清洗。如果需要,可使用低温熨烫
  • 即使经过多次清洗,Hitecloth 仍能保持其原有的清洁效果

KBSEIREN 日本製 HITECLOTH 高級拭鏡布 3色 高級微纖維 清潔布 光學專用 佳麗寶

Hitecloth光学玻璃专用拭镜布

产地/品牌: Hitecloth光学玻璃专用拭镜布 产品类别: 超声波清洗
型       号: Hitecloth光学玻璃专用拭镜布 最后更新: 2023-9-2

Hitecloth光学玻璃专用拭镜布

 

HITECLOTH是由原Kanebo公司制造极G级拭布,是由Belima.X织成,0.1旦尼尔T级G级微纤维所构成,质地细致、坚韧、不起颗粒,由断面图可以发现,聚酯棉锐利的边缘与尼龙为核心,可以有效吸附极为细小污垢,而细微的纤维不会损伤任何表面,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养。由于在发展Belima涗微纤维与高收缩科技,而研制成此款高科技拭布使Kanebo公司成为高科技微纤维之领导厂商。

规格:24CM X 24CM

包装:100片/包

注:由于印刷是外发加工的所以每批货可能会略有不同(如:字体,大小,粗细等);但材料是无差别的,

特殊性能:

能清洁由渍与显微颗粒,传统拭布无法清除者。

由于特殊柔软纤维构成,此拭布并不会伤害镜片表面。

可以应用于广泛产品如玻璃或塑胶镜片、水晶、相机及摄影器材、贵金属制成之珠宝首饰等,而不刮损及表面。

可洗涤,即使多次清洗仍可保持清拭功效。

此纤维尖锐的边缘较传统拭布更能完全清除附着于镜片表面的灰尘与污垢

注意事项:

洗涤时,请使用中性肥皂或清洁剂。

熨烫时,温度请设定120℃以下。

擦拭前請先用空氣球將大顆粒汙垢清除。

Hitecloth光学玻璃专用拭镜布

日本 KB SIREN HITECLOTH 拭鏡布

日本 KB SIREN HITECLOTH 拭鏡布

  • 能清潔油漬與顯微顆粒與傳統拭布無法清除者。
  • 可以應用於廣泛產品
  • 可洗滌

最高級的顯微纖維

HITECLOTH是由日本KB SEIREN公司製造(原Kanebo佳麗寶公司)極高級拭布,
由0.1旦尼爾特級高級微纖維所構成,
質地細緻、堅韌、不起顆粒,
由斷面圖可以發現,聚酯棉銳利的邊緣與尼龍為核心,
可以有效吸附極為細小汙垢,
而細微的纖維不會損傷任何表面,
由於在發展Belima涗微纖維與高收縮科技,
而研製成此款高科技拭布使KB SEIREN公司成為高科技微纖維之領導廠商。

 

特殊性能

*能清潔油漬與顯微顆粒,傳統拭布無法清除者。

*由於特殊柔軟纖維構成,此拭布並不會傷害鏡片表面。

*可以應用於廣泛產品如玻璃或塑膠鏡片、水晶、相機及

 攝影器材、貴金屬製成之珠寶首飾等,而不刮損及表面。

*可洗滌,即使多次清洗仍可保持清拭功效。

注意事項

*洗滌時,請使用中性肥皂或清潔劑
*熨燙時,溫度請設定120度C以下
*擦拭時,請使用空氣球將大顆粒汙垢先行清除

使用用途

*數位相機、攝影機、鏡頭等製造工程及清潔工作。
*貴重寶石、玉器、金飾、名錶等之擦拭。
*光碟機、磁碟機、硬碟機等之製造工程。
*液晶面板及其他相關製造工程。
*半導體、積體電路等之製造工程。
*精密塗裝前之清潔工作。

規格說明
24公分 X 24公分(白、紅、藍 三色)
Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

Cleanroom Cleaning Rags

Cleanroom Cleaning Rags【10 Pieces Per Package】

Savina Minimax Wiping Cloth, White, 9-3061-01

Part Number: 9-3061-01

• Product Model: Wiper
• Material: polyester
• Sheet Size (mm): 240×240
• Color: White
• Grated Scale Category: 100

Product Type Wiper Material Polyester
Sheet size(mm) 240×240 Color White
Grade Standard (Fed.Std. 209D Class) 100 Manufacturer Product Name Savina minimax wiping cloth
JAN Code 4560274451640 Detailed Material Polyester, PA (Nylon) (High density ultra-thin fiber)
Feature Since ultrafine fibers are used, there is no fuzz on the surface of the texture and the generation of dust can be inhibited to extremely low levels. Features 2 Has excellent water absorption and catches fine particles of dust.
Quantity 1 Pack (10 pcs)
Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

Savina MX超细无尘布:高科技时代的清洁先锋

在当今精密科技飞速发展的时代,无尘环境对于众多行业而言显得尤为重要。无论是光学镜头的精密制造,还是半导体生产线的严格控制,都需要高标准的清洁解决方案。在这样的背景下,日本Savina MX超细无尘布以其卓越的性能和广泛的应用,成为了清洁领域的佼佼者,为众多行业的无尘环境维护提供了可靠保障。

卓越的吸水吸油性能

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina MX超细无尘布之所以能够在市场上脱颖而出,首先要归功于其卓越的吸水吸油性能。无论是在光学镜头的制造过程中,还是在半导体生产线的车间,Savina MX都能轻松应对各种清洁任务。其强大的吸水吸油性不仅能高效清洁表面的污渍,还能在清洁过程中保护原件不受磨损。对于需要极高洁净度的行业来说,Savina MX无疑是确保清洁过程安全性和有效性的最佳选择。

无尘环境的理想选择

无尘环境对于许多高科技行业至关重要。Savina MX无尘布在设计上充分考虑了无尘环境的特殊要求。无尘室中所使用的擦拭布,不仅需要彻底清洁所有仪器、器械和外围设备,还必须确保清洁过程不造成任何污染。Savina MX无尘擦拭布正是为此而生。它能够有效吸收并清除多余的水分,同时在清洁过程中不产生任何污染,确保无尘环境的维护和稳定。

先进制造工艺与卓越性能

Savina MX超细纤维无尘布采用了最先进的制造工艺,具备超高的收缩率和密度。经过专门的细针距针织机编织而成的Savina MX,表面积达到了惊人的25,700 c㎡/g,相比传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g,这意味着Savina minimax的清洁效率和持久性大大提高。在实际使用中,用户能够明显感受到其卓越的清洁效果和持久的使用寿命。

广泛应用于各个行业

Savina MX的卓越性能,使其在多个行业得到了广泛应用。光学镜头制造、半导体生产、医疗器械清洁、精密仪器维护等领域,都能看到Savina MX的身影。其多功能性和高效性,使其成为众多企业和机构的首选清洁产品。在高标准无尘环境的维护中,Savina MX已经成为不可或缺的重要角色。

未来展望

随着科技的不断进步,对无尘环境的需求将日益增加。Savina MX超细无尘布凭借其出色的性能和广泛的应用范围,将继续在清洁领域发挥重要作用。作为高科技时代的清洁利器,Savina MX不仅为各行业的无尘环境维护提供了可靠保障,还为人们创造了更加清洁、健康的工作环境。我们有理由相信,在未来的日子里,Savina MX将继续引领清洁领域的创新,为更多行业带来高效、可靠的清洁解决方案。

在选择无尘擦拭布时,选择Savina MX,就是选择了品质与信赖。让Savina MX无尘布为您的无尘环境保驾护航,助力您的事业腾飞!

Savina Minimax是日本钟纺KBSEIREN公司的顶级无尘擦拭布,以其卓越性能和广泛应用而著称,是各行业无尘环境维护的*选之一, Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Minimax超细纤维无尘布

Savina Mx超细纤维无尘布擦拭镜布

Savina Mx超細纖維無塵擦拭布拭鏡布

日本钟纺株式会社开发的Savina Minimax是一款高级别的无尘擦拭布,广泛适用于10级以上的无尘车间净化环境。这款擦拭布具有出色的吸水吸油性能,不会损伤原件表面,因此被广泛用于光学镜头制造、办公器材保养以及半导体生产线车间等领域。

规格:

  • Savina MX 7CM x 7CM,1000片/包
  • Savina MX 15CM x 15CM,200片/包
  • Savina MX 24CM x 24CM,100片/包
  • Savina MX 50CM x 50CM,20片/包
  • Savina MX 100CM x 100CM,5片/包

特点:

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能,能够清除灰尘而不会污染无尘室设备。

用途:

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

产品特性:

  • 自己发尘量极微。
  • 吸水性能优异,吸水速度快,保水量大。
  • 残留离子等溶出成分极少。
  • 拭浄性好,能够彻底清除污渍而不会再次污染表面。

无尘室中使用的擦拭布至关重要,而Savina Minimax以其高性能和多功能性,成为了行业中的首选。其超高收缩、高密度整理的特性保证了清洁效果,使其成为各类精密生产环境中的理想选择。

ザヴィーナ®MXワイピングクロス

Savina Mx microfiber wiper

今日のハイテクノロジーは、ますます高度化・精密化しています。LSIや液晶など生産工程の環境づくりに欠かせないのが、高性能のワイピングクロスです。
時代のニーズにいち早く対応し、スーパークリーンルームの超無塵環境に充分対応できるワイピングクロスを開発しました。それがザヴィーナMXです。
クリーンルーム内で使われるワイパーは、器具類、装置類、周辺物を汚染することなく清浄化し、吸水を果す役割を担っています。ワイパーに必要とされる特性をすべて兼ね備えたザヴィーナMXは、まさにハイテクノロジー時代が生んだ高性能のワイピングクロスです。

ザヴィーナMXは編立のあと、独自の技術でタテヨコに超高収縮させ、高密度化。ワイピングクロス表面の1平方センチ当り82,550本もの繊維がホコリをとらえます。

規格:

  • Savina MX 7CM x 7CM、1000枚/パック
  • Savina MX 15CM x 15CM、200枚/パック
  • Savina MX 24CM x 24CM、100枚/パック
  • Savina MX 50CM x 50CM、20枚/パック
  • Savina MX 100CM x 100CM、5枚/パック

特徴:

  • 毛羽がほとんど発生しません。
  • 迅速かつ積極的に水分を吸収し、保持します。
  • 溶出イオンやその他の物質の残留率が低いです。
  • 高品質なクリーンクロス性能を備え、ダストを取り除く際にクリーンルームの設備を汚染しません。

用途:

  • 光ディスク、ハードディスク、ソフトディスクの製造プロセス
  • 液晶偏光板およびその他のアイテムの製造プロセス
  • 光ディスクおよび磁気ディスクの製造プロセス
  • ビデオカメラの製造プロセス
  • コンタクトレンズの製造プロセス
  • カメラの組み立てライン
  • 印刷基板のクリーンアッププロセス
  • カメラレンズのコーティング前のクリーンアッププロセス
  • 薬品生産ラインのクリーンアッププロセス
  • フィルム製造ラインのクリーンアッププロセス
  • 半導体および基板の製造プロセス
  • 高精度コーティング前のワークピースのクリーンアッププロセス

製品特性:

  • 自己発尘量が極めて少ないです。
  • 吸水性能に優れ、吸水速度が速く、保水量が大きいです。
  • 溶出イオンなどの残留物が非常に少ないです。
  • 汚れを徹底的に取り除き、表面を再汚染しません。

クリーンルームでの擦拭布の使用は非常に重要ですが、Savina Minimax  ザヴィーナMX はその高性能と多機能性により、業界でのトップチョイスとなっています。超高収縮、高密度整理された特性は、清掃効果を保証し、さまざまな精密生産環境での理想的な選択肢となっています。

超细纤维清洁带MX600

Savina 是将 BelimaX 进行超高收缩高密度加工的产品,表面的丝量约是其他涤纶针织擦拭布的12倍,不用擦拭很多遍,只需一次就可以擦拭干净。因此可满足客户装载在自动机上自动擦拭的需求。

用途:

适用于多种行业,包括但不限于:

  • 制造业
  • 电子行业
  • 汽车行业
  • 化工行业

特点:

  1. 多功能性:适用于各种不同的工业应用。
  2. 耐用性:具有出色的耐磨和耐用特性,可适应高强度的使用环境。
  3. 高效性能:在各种工业操作中表现出色,提高生产效率。
  4. 环保:符合相关环保标准,不含有害物质。

尺寸:

  • 10mm X 90M