Savina Mx超细纤维无尘布擦拭镜布
Savina Mx超細纖維無塵擦拭布拭鏡布
日本钟纺株式会社开发的Savina Minimax是一款高级别的无尘擦拭布,广泛适用于10级以上的无尘车间净化环境。这款擦拭布具有出色的吸水吸油性能,不会损伤原件表面,因此被广泛用于光学镜头制造、办公器材保养以及半导体生产线车间等领域。
规格:
- Savina MX 7CM x 7CM,1000片/包
- Savina MX 15CM x 15CM,200片/包
- Savina MX 24CM x 24CM,100片/包
- Savina MX 50CM x 50CM,20片/包
- Savina MX 100CM x 100CM,5片/包
特点:
- 掉毛量极少。
- 迅速而积极地吸收并留住水分。
- 残留离子和其他物质的溶解率较低。
- 具备高端的擦拭布性能,能够清除灰尘而不会污染无尘室设备。
用途:
- 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
- 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
- 光盘和磁盘的生产过程
- 录像机的生产过程
- 隐形眼镜的生产过程
- 相机装配线
- 印刷电路板的清洁工艺
- 相机镜头镀膜前的清洁工艺
- 药品生产线清洁工艺
- 电影胶片清洁工艺
- 半导体和基础电路的生产过程
- 精密涂层之前工件的清洁过程
产品特性:
- 自己发尘量极微。
- 吸水性能优异,吸水速度快,保水量大。
- 残留离子等溶出成分极少。
- 拭浄性好,能够彻底清除污渍而不会再次污染表面。
无尘室中使用的擦拭布至关重要,而Savina Minimax以其高性能和多功能性,成为了行业中的首选。其超高收缩、高密度整理的特性保证了清洁效果,使其成为各类精密生产环境中的理想选择。
ザヴィーナ®MXワイピングクロス
Savina Mx microfiber wiper
今日のハイテクノロジーは、ますます高度化・精密化しています。LSIや液晶など生産工程の環境づくりに欠かせないのが、高性能のワイピングクロスです。
時代のニーズにいち早く対応し、スーパークリーンルームの超無塵環境に充分対応できるワイピングクロスを開発しました。それがザヴィーナMXです。
クリーンルーム内で使われるワイパーは、器具類、装置類、周辺物を汚染することなく清浄化し、吸水を果す役割を担っています。ワイパーに必要とされる特性をすべて兼ね備えたザヴィーナMXは、まさにハイテクノロジー時代が生んだ高性能のワイピングクロスです。
ザヴィーナMXは編立のあと、独自の技術でタテヨコに超高収縮させ、高密度化。ワイピングクロス表面の1平方センチ当り82,550本もの繊維がホコリをとらえます。
規格:
- Savina MX 7CM x 7CM、1000枚/パック
- Savina MX 15CM x 15CM、200枚/パック
- Savina MX 24CM x 24CM、100枚/パック
- Savina MX 50CM x 50CM、20枚/パック
- Savina MX 100CM x 100CM、5枚/パック
特徴:
- 毛羽がほとんど発生しません。
- 迅速かつ積極的に水分を吸収し、保持します。
- 溶出イオンやその他の物質の残留率が低いです。
- 高品質なクリーンクロス性能を備え、ダストを取り除く際にクリーンルームの設備を汚染しません。
用途:
- 光ディスク、ハードディスク、ソフトディスクの製造プロセス
- 液晶偏光板およびその他のアイテムの製造プロセス
- 光ディスクおよび磁気ディスクの製造プロセス
- ビデオカメラの製造プロセス
- コンタクトレンズの製造プロセス
- カメラの組み立てライン
- 印刷基板のクリーンアッププロセス
- カメラレンズのコーティング前のクリーンアッププロセス
- 薬品生産ラインのクリーンアッププロセス
- フィルム製造ラインのクリーンアッププロセス
- 半導体および基板の製造プロセス
- 高精度コーティング前のワークピースのクリーンアッププロセス
製品特性:
- 自己発尘量が極めて少ないです。
- 吸水性能に優れ、吸水速度が速く、保水量が大きいです。
- 溶出イオンなどの残留物が非常に少ないです。
- 汚れを徹底的に取り除き、表面を再汚染しません。
クリーンルームでの擦拭布の使用は非常に重要ですが、Savina Minimax ザヴィーナMX はその高性能と多機能性により、業界でのトップチョイスとなっています。超高収縮、高密度整理された特性は、清掃効果を保証し、さまざまな精密生産環境での理想的な選択肢となっています。